第643章 掩膜台困局！单日348.2亿？老马：我们能赢吗？（2/5）

用大白话来说，掩膜台其实是一个专门“托着掩膜版干活、还得保证它动得又准又稳”的高精度工作台。

比如你要在蛋糕上印图案，掩膜版是那张带图案的模板，而掩膜台是用于摆放这块模板的支架。

它的核心作用是，稳稳托住掩膜版，再按要求精准移动，确保芯片电路能清晰、准确地印在硅片上。

林南脸上的笑容一滞，苦涩一笑：“老板，胡老帮我们联系了清华和华卓精科团队，这两家在掩膜台领域的制造工艺，勉强能达到45纳米。”

光刻机的更新换代是跳跃式的！

别看45纳米和28纳米之间，仅有几代的差距，但28纳米工艺的掩膜台，在速度、加速度、精度和稳定性上的研发难度比45纳米节点高出了几十倍。

全球唯有尼康、佳能和阿斯麦三家的掩膜台，能支持28纳米的工艺制程，而28纳米以上，仅有阿斯麦一家。

而掩膜台通常是作为光刻机整体设备的一部分进行研发和生产的，一般不会单独对外销售。

沉吟半晌后，陈延森缓缓开口：“华卓精科对28纳米掩膜台的研发，有没有具体的技术方向？”

林南听后，连忙调出一份早已准备好的文档，投在共享屏幕上：“胡老提到过，华卓精科在三年前就启动了28纳米级掩膜台的预研，只是卡在了两个核心问题上。

第一，高速运动下的姿态控制，目前他们的伺服系统在加速度达到2G时，精度就会出现微米级偏差；

第二，真空环境下的热变形补偿，掩膜台的金属构件在温度波动0.1摄氏度时，就会影响定位精度，他们试过用碳纤维复合材料，但成本太高，而且加工工艺还不成熟。”

2G？

陈延森哭笑不得。

要知道，掩膜台的加速度越大，可以缩短掩膜台的加速和减速时间，从而提高光刻效率，减少芯片制造的时间成本，这对于大规模芯片生产来说非常重要。

阿斯麦NXT 1950i DUV光刻机的掩膜台加速度均值为15G，峰值可达25G。

华卓精科的掩膜台仅仅是能用而已，压根没法商业化。

他算是看明白了，以国内配套产业链的技术实力，很难支撑星源科技完全掌握光学系统的核心技术，这是绕不开的现实问题。

2G的加速度与阿斯麦25G的峰值比起来，就像蹒跚学步的孩童与百米冲刺的运动员，实力悬殊。