第254章 厂会发难（2/5）

“方向可以换一个，成辉同志，或许你们可以从光刻的接触方式，原有的掩膜版和光刻胶的物理接触会摩擦损伤掩膜版的寿命。

灰尘颗粒也会导致生产缺陷，胶膜更是在压力下变形，这些都是限制精度提升的原因，或许可以尝试分离开一段距离，但是不接近.”

周志强将接下来准备研发的项目方向，详细的跟赵成辉他们讲了另一种光刻工艺。

上次他想说来着，不过那时候时间紧任务重，能将硅晶管制造出来已经很不错了，之后还有集成电路要研发制造，所以光刻工艺就没关。

但现在想要制造出专属复合加工数控机床的集成数控系统，就要高性能的集成电路.光刻工艺的提升也是避不可免的。

周志强一边说还一边拉过来一份黑板，一边说一边给技术科内的所有人示意起大致原理。

“改变接触方式？不接触怎么曝光，而且光纤穿过掩膜版的缝隙，光就会发生衍射”

林工开口问道：“这个距离怎么控制，恐怕只有十几微米到几微米之间吧，周厂长，不容易实现吧？”

“是不容易，但不是完全不可能，而且用这种光刻工艺，哪怕精度只有一小部分进度，但却可以在生产效率上大大提升”

也不太需要追求极致到几微米的精度，现在确实实现不了，但只要比之前的精度有提升就行。

他们可以一步一步的提升，但这个光刻工艺可以凭借高精度的机械系统，实现半自动化生产，单单生产效率就能提升几十倍甚至更多。

周志强还有点私心，那就是新研发出来的光刻工艺也用在数控分厂。

以后数控分厂能发展起来厂内自己科研力量和技术储备，就不用一直盯着一九零厂了。

周志强始终觉得掌控在自己手中的才是最好的，要不然他也不至于把数控分厂建的那么大，而且单单是技术科未来三年的规划，就要满四十人。

接下来单单讲新的光刻工艺技术原理，周志强就用了不少时间，主要是技术科内林工和李工等人虽然理解了，但是觉得以现在的条件不太可能做到。

就算做到了，精度提升空间也受限机械系统的精度，难以达到理想的光刻状态。

不如从其他方向突破，这样还有可能达到预期目标。

但周志强还没说话，这个提议便被赵成辉给否定了。

这将近一年的时间，他们不是没往其他方向努力过，但实验了很多次、还和其他研究所进行和合作实验，依旧没能取得有效的成果。

既然这样，还不如试试周志强提出的研发方向努力。

从技术科出来后，赵成辉便和周志强一块来到刘瑞光厂长的办公室。

刘瑞光一看到这两人同时赶来，顿时有些不好的预感。

在听完赵成辉说的事情后，刘厂长顿时嘬牙花子的说道：“周厂长，我就知道，我就知道啊.你来的话对我肯定没什么好事，刚才我还有些侥幸”